Источник фото:
Установка работает по технологии, похожей на литографию — луч ультрафиолетового лазера фокусируется в толще фоточувствительной пленки, в результате фотохимической реакции на обрабатываемой поверхности получается нанорельеф, параметры которого можно выдерживать с точностью до нескольких нанометров. Так можно получать шаблоны для оптических элементов или готовую оптику. Применение этого метода позволяет, в частности, значительно сократить массу спутниковых оптических приборов.